Sustrato de SiC, 3 pulgadas, 350 um de espesor, tipo HPSI, grado primario, grado simulado
Propiedades
Parámetro | Grado de producción | Grado de investigación | Grado ficticio | Unidad |
Calificación | Grado de producción | Grado de investigación | Grado ficticio | |
Diámetro | 76,2 ± 0,5 | 76,2 ± 0,5 | 76,2 ± 0,5 | mm |
Espesor | 500 ± 25 | 500 ± 25 | 500 ± 25 | µm |
Orientación de la oblea | En el eje: <0001> ± 0,5° | En el eje: <0001> ± 2,0° | En el eje: <0001> ± 2,0° | grado |
Densidad de microtubos (MPD) | ≤ 1 | ≤ 5 | ≤ 10 | cm-2^-2-2 |
Resistividad eléctrica | ≥ 1E10 | ≥ 1E5 | ≥ 1E5 | Ω·cm |
dopante | sin dopar | sin dopar | sin dopar | |
Orientación plana primaria | {1-100} ± 5,0° | {1-100} ± 5,0° | {1-100} ± 5,0° | grado |
Longitud plana primaria | 32,5 ± 3,0 | 32,5 ± 3,0 | 32,5 ± 3,0 | mm |
Longitud plana secundaria | 18,0 ± 2,0 | 18,0 ± 2,0 | 18,0 ± 2,0 | mm |
Orientación plana secundaria | 90° CW desde plano primario ± 5,0° | 90° CW desde plano primario ± 5,0° | 90° CW desde plano primario ± 5,0° | grado |
Exclusión de borde | 3 | 3 | 3 | mm |
LTV/TTV/arco/deformación | 3/10/±30/40 | 3/10/±30/40 | 5/15/±40/45 | µm |
Rugosidad de la superficie | Cara Si: CMP, Cara C: Pulida | Cara Si: CMP, Cara C: Pulida | Cara Si: CMP, Cara C: Pulida | |
Grietas (luz de alta intensidad) | Ninguno | Ninguno | Ninguno | |
Placas hexagonales (luz de alta intensidad) | Ninguno | Ninguno | Área acumulada 10% | % |
Áreas politipo (luz de alta intensidad) | Área acumulada 5% | Área acumulada 20% | Área acumulada 30% | % |
Arañazos (luz de alta intensidad) | ≤ 5 rayones, longitud acumulada ≤ 150 | ≤ 10 rayones, longitud acumulada ≤ 200 | ≤ 10 rayones, longitud acumulada ≤ 200 | mm |
Descantillado de bordes | Ninguno ≥ 0,5 mm de ancho/profundidad | 2 permitidos ≤ 1 mm de ancho/profundidad | 5 permitidos ≤ 5 mm de ancho/profundidad | mm |
Contaminación de superficies | Ninguno | Ninguno | Ninguno |
Aplicaciones
1. Electrónica de alta potencia
La conductividad térmica superior y la amplia banda prohibida de las obleas de SiC las hacen ideales para dispositivos de alta potencia y alta frecuencia:
●MOSFET e IGBT para conversión de energía.
●Sistemas avanzados de energía para vehículos eléctricos, incluidos inversores y cargadores.
●Infraestructuras de redes inteligentes y sistemas de energías renovables.
2. Sistemas de RF y microondas
Los sustratos de SiC permiten aplicaciones de microondas y RF de alta frecuencia con una pérdida de señal mínima:
●Telecomunicaciones y sistemas satelitales.
●Sistemas de radar aeroespacial.
●Componentes avanzados de red 5G.
3. Optoelectrónica y Sensores
Las propiedades únicas del SiC respaldan una variedad de aplicaciones optoelectrónicas:
●Detectores UV para monitoreo ambiental y detección industrial.
●Sustratos LED y láser para iluminación de estado sólido e instrumentos de precisión.
●Sensores de alta temperatura para la industria aeroespacial y automotriz.
4. Investigación y desarrollo
La diversidad de grados (Producción, Investigación, Dummy) permite la experimentación de vanguardia y la creación de prototipos de dispositivos en el mundo académico y la industria.
Ventajas
●Fiabilidad:Excelente resistividad y estabilidad entre grados.
●Personalización:Orientaciones y espesores personalizados para adaptarse a diferentes necesidades.
●Alta Pureza:La composición sin dopar garantiza variaciones mínimas relacionadas con las impurezas.
●Escalabilidad:Cumple con los requisitos tanto de la producción en masa como de la investigación experimental.
Las obleas de SiC de alta pureza de 3 pulgadas son su puerta de entrada a dispositivos de alto rendimiento y avances tecnológicos innovadores. Para consultas y especificaciones detalladas, contáctenos hoy.
Resumen
Las obleas de carburo de silicio (SiC) de alta pureza de 3 pulgadas, disponibles en grados de producción, investigación y simulados, son sustratos de primera calidad diseñados para electrónica de alta potencia, sistemas de RF/microondas, optoelectrónica e investigación y desarrollo avanzados. Estas obleas presentan propiedades semiaislantes sin dopar con excelente resistividad (≥1E10 Ω·cm para grado de producción), baja densidad de microtubos (≤1 cm−2^-2−2) y una calidad de superficie excepcional. Están optimizados para aplicaciones de alto rendimiento, incluidas conversión de energía, telecomunicaciones, detección UV y tecnologías LED. Con orientaciones personalizables, conductividad térmica superior y propiedades mecánicas robustas, estas obleas de SiC permiten una fabricación de dispositivos eficiente y confiable e innovaciones revolucionarias en todas las industrias.