Oblea de silicio FZ CZ en stock Oblea de silicio de 12 pulgadas de primera calidad o de prueba

Descripción breve:

Una oblea de silicio de 30 cm (12 pulgadas) es un material semiconductor delgado que se utiliza en aplicaciones electrónicas y circuitos integrados. Las obleas de silicio son componentes muy importantes en productos electrónicos comunes como ordenadores, televisores y teléfonos móviles. Existen diferentes tipos de obleas, cada una con sus propiedades específicas. Para determinar cuál es la oblea de silicio más adecuada para un proyecto específico, debemos comprender los distintos tipos de obleas y su idoneidad.


Detalle del producto

Etiquetas de productos

Introducción de la caja de obleas

Obleas pulidas

Obleas de silicio pulidas especialmente por ambas caras para obtener una superficie de espejo. Características superiores como la pureza y la planitud definen las mejores características de esta oblea.

Obleas de silicio sin dopar

También se conocen como obleas de silicio intrínsecas. Este semiconductor es una forma cristalina pura de silicio sin dopantes en toda la oblea, lo que lo convierte en un semiconductor ideal y perfecto.

Obleas de silicio dopadas

El tipo N y el tipo P son los dos tipos de obleas de silicio dopadas.

Las obleas de silicio dopado tipo N contienen arsénico o fósforo. Se utilizan ampliamente en la fabricación de dispositivos CMOS avanzados.

Obleas de silicio tipo P dopadas con boro. Se utilizan principalmente para fabricar circuitos impresos o fotolitografía.

Obleas epitaxiales

Las obleas epitaxiales son obleas convencionales que se utilizan para obtener integridad superficial. Están disponibles en versiones gruesas y delgadas.

Las obleas epitaxiales multicapa y las obleas epitaxiales gruesas también se utilizan para regular el consumo de energía y el control de potencia de los dispositivos.

Las obleas epitaxiales delgadas se utilizan comúnmente en instrumentos MOS superiores.

Obleas SOI

Estas obleas se utilizan para aislar eléctricamente finas capas de silicio monocristalino de toda la oblea de silicio. Las obleas SOI se utilizan comúnmente en fotónica de silicio y aplicaciones de radiofrecuencia de alto rendimiento. También se utilizan para reducir la capacitancia parásita de dispositivos microelectrónicos, lo que contribuye a mejorar el rendimiento.

¿Por qué es difícil la fabricación de obleas?

Las obleas de silicio de 30 cm (12 pulgadas) son muy difíciles de cortar en términos de rendimiento. Si bien el silicio es duro, también es frágil. Se crean zonas rugosas a medida que los bordes aserrados de las obleas tienden a romperse. Se utilizan discos de diamante para alisar los bordes de las obleas y eliminar cualquier daño. Tras el corte, las obleas se rompen fácilmente debido a sus bordes afilados. Los bordes de las obleas están diseñados para eliminar los bordes frágiles y afilados, y se reduce la posibilidad de deslizamiento. Como resultado de la operación de conformado de bordes, se ajusta el diámetro de la oblea, se redondea (después del corte, la oblea cortada es ovalada) y se realizan o dimensionan muescas o planos orientados.

Diagrama detallado

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