Oblea de SiC 4H-N de 8 pulgadas (200 mm), conductora ficticia de grado de investigación

Descripción breve:

A medida que evolucionan los mercados del transporte, la energía y la industria, la demanda de electrónica de potencia fiable y de alto rendimiento sigue creciendo. Para satisfacer la necesidad de un mejor rendimiento de los semiconductores, los fabricantes de dispositivos recurren a materiales semiconductores de banda prohibida ancha, como nuestra gama de obleas de carburo de silicio (SiC) 4H de grado Prime, de tipo n.


Características

Debido a sus propiedades físicas y electrónicas únicas, el material semiconductor de obleas de SiC de 200 mm se utiliza para crear dispositivos electrónicos de alto rendimiento, resistentes a altas temperaturas, a la radiación y a altas frecuencias. El precio del sustrato de SiC de 8 pulgadas está disminuyendo gradualmente a medida que la tecnología avanza y la demanda crece. Los recientes avances tecnológicos permiten la fabricación a gran escala de obleas de SiC de 200 mm. Las principales ventajas de los materiales semiconductores de obleas de SiC en comparación con las obleas de Si y GaAs son: La intensidad del campo eléctrico del 4H-SiC durante la ruptura por avalancha es más de un orden de magnitud superior a los valores correspondientes para Si y GaAs. Esto conlleva una disminución significativa de la resistividad en estado activo (Ron). La baja resistividad en estado activo, combinada con una alta densidad de corriente y conductividad térmica, permite el uso de chips muy pequeños para dispositivos de potencia. La alta conductividad térmica del SiC reduce la resistencia térmica del chip. Las propiedades electrónicas de los dispositivos basados ​​en obleas de SiC son muy estables en el tiempo y con la temperatura, lo que garantiza una alta fiabilidad de los productos. El carburo de silicio es extremadamente resistente a la radiación intensa, lo que no degrada las propiedades electrónicas del chip. Su elevada temperatura límite de funcionamiento (superior a 6000 °C) permite crear dispositivos de alta fiabilidad para condiciones de funcionamiento exigentes y aplicaciones especiales. Actualmente, podemos suministrar obleas de SiC de 200 mm en lotes pequeños de forma constante y continua, y disponemos de existencias en nuestro almacén.

Especificación

Número Artículo Unidad Producción Investigación Ficticio
1. Parámetros
1.1 politipo -- 4H 4H 4H
1.2 orientación de la superficie ° <11-20>4±0.5 <11-20>4±0.5 <11-20>4±0.5
2. Parámetro eléctrico
2.1 dopante -- Nitrógeno de tipo n Nitrógeno de tipo n Nitrógeno de tipo n
2.2 resistividad ohmio ·cm 0,015~0,025 0,01~0,03 NA
3. Parámetro mecánico
3.1 diámetro mm 200±0.2 200±0.2 200±0.2
3.2 espesor μm 500±25 500±25 500±25
3.3 Orientación de la muesca ° [1- 100]±5 [1- 100]±5 [1- 100]±5
3.4 Profundidad de la muesca mm 1~1.5 1~1.5 1~1.5
3.5 LTV μm ≤5(10 mm * 10 mm) ≤5(10 mm * 10 mm) ≤10(10 mm * 10 mm)
3.6 Televisión por satélite μm ≤10 ≤10 ≤15
3.7 Arco μm -25~25 -45~45 -65~65
3.8 Urdimbre μm ≤30 ≤50 ≤70
3.9 AFM nm Ra≤0.2 Ra≤0.2 Ra≤0.2
4. Estructura
4.1 densidad de micropipes ea/cm2 ≤2 ≤10 ≤50
4.2 contenido de metales átomos/cm2 ≤1E11 ≤1E11 NA
4.3 TSD ea/cm2 ≤500 ≤1000 NA
4.4 Trastorno límite de la personalidad ea/cm2 ≤2000 ≤5000 NA
4.5 TED ea/cm2 ≤7000 ≤10000 NA
5. Calidad positiva
5.1 frente -- Si Si Si
5.2 acabado superficial -- CMP de cara Si CMP de cara Si CMP de cara Si
5.3 partícula cada oblea ≤100 (tamaño ≥0,3 μm) NA NA
5.4 rascar cada oblea ≤5, Longitud total ≤200 mm NA NA
5.5 Borde
astillas/hendiduras/grietas/manchas/contaminación
-- Ninguno Ninguno NA
5.6 áreas de politipo -- Ninguno Área ≤10% Área ≤30%
5.7 marca frontal -- Ninguno Ninguno Ninguno
6. Calidad de la espalda
6.1 acabado posterior -- Cara C MP Cara C MP Cara C MP
6.2 rascar mm NA NA NA
6.3 bordes con defectos en la parte posterior
astillas/hendiduras
-- Ninguno Ninguno NA
6.4 Rugosidad de la espalda nm Ra≤5 Ra≤5 Ra≤5
6.5 Marcado posterior -- Muesca Muesca Muesca
7. Borde
7.1 borde -- Chaflán Chaflán Chaflán
8. Paquete
8.1 embalaje -- Preparado para epi con vacío
embalaje
Preparado para epi con vacío
embalaje
Preparado para epi con vacío
embalaje
8.2 embalaje -- Multi-wafer
embalaje de casete
Multi-wafer
embalaje de casete
Multi-wafer
embalaje de casete

Diagrama detallado

8 pulgadas SiC03
8 pulgadas SiC4
8 pulgadas SiC5
8 pulgadas SiC6

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