Oblea de SiC 4H-N de 8 pulgadas (200 mm), conductora ficticia de grado de investigación
Debido a sus propiedades físicas y electrónicas únicas, el material semiconductor de obleas de SiC de 200 mm se utiliza para crear dispositivos electrónicos de alto rendimiento, resistentes a altas temperaturas, a la radiación y a altas frecuencias. El precio del sustrato de SiC de 8 pulgadas está disminuyendo gradualmente a medida que la tecnología avanza y la demanda crece. Los recientes avances tecnológicos permiten la fabricación a gran escala de obleas de SiC de 200 mm. Las principales ventajas de los materiales semiconductores de obleas de SiC en comparación con las obleas de Si y GaAs son: La intensidad del campo eléctrico del 4H-SiC durante la ruptura por avalancha es más de un orden de magnitud superior a los valores correspondientes para Si y GaAs. Esto conlleva una disminución significativa de la resistividad en estado activo (Ron). La baja resistividad en estado activo, combinada con una alta densidad de corriente y conductividad térmica, permite el uso de chips muy pequeños para dispositivos de potencia. La alta conductividad térmica del SiC reduce la resistencia térmica del chip. Las propiedades electrónicas de los dispositivos basados en obleas de SiC son muy estables en el tiempo y con la temperatura, lo que garantiza una alta fiabilidad de los productos. El carburo de silicio es extremadamente resistente a la radiación intensa, lo que no degrada las propiedades electrónicas del chip. Su elevada temperatura límite de funcionamiento (superior a 6000 °C) permite crear dispositivos de alta fiabilidad para condiciones de funcionamiento exigentes y aplicaciones especiales. Actualmente, podemos suministrar obleas de SiC de 200 mm en lotes pequeños de forma constante y continua, y disponemos de existencias en nuestro almacén.
Especificación
| Número | Artículo | Unidad | Producción | Investigación | Ficticio |
| 1. Parámetros | |||||
| 1.1 | politipo | -- | 4H | 4H | 4H |
| 1.2 | orientación de la superficie | ° | <11-20>4±0.5 | <11-20>4±0.5 | <11-20>4±0.5 |
| 2. Parámetro eléctrico | |||||
| 2.1 | dopante | -- | Nitrógeno de tipo n | Nitrógeno de tipo n | Nitrógeno de tipo n |
| 2.2 | resistividad | ohmio ·cm | 0,015~0,025 | 0,01~0,03 | NA |
| 3. Parámetro mecánico | |||||
| 3.1 | diámetro | mm | 200±0.2 | 200±0.2 | 200±0.2 |
| 3.2 | espesor | μm | 500±25 | 500±25 | 500±25 |
| 3.3 | Orientación de la muesca | ° | [1- 100]±5 | [1- 100]±5 | [1- 100]±5 |
| 3.4 | Profundidad de la muesca | mm | 1~1.5 | 1~1.5 | 1~1.5 |
| 3.5 | LTV | μm | ≤5(10 mm * 10 mm) | ≤5(10 mm * 10 mm) | ≤10(10 mm * 10 mm) |
| 3.6 | Televisión por satélite | μm | ≤10 | ≤10 | ≤15 |
| 3.7 | Arco | μm | -25~25 | -45~45 | -65~65 |
| 3.8 | Urdimbre | μm | ≤30 | ≤50 | ≤70 |
| 3.9 | AFM | nm | Ra≤0.2 | Ra≤0.2 | Ra≤0.2 |
| 4. Estructura | |||||
| 4.1 | densidad de micropipes | ea/cm2 | ≤2 | ≤10 | ≤50 |
| 4.2 | contenido de metales | átomos/cm2 | ≤1E11 | ≤1E11 | NA |
| 4.3 | TSD | ea/cm2 | ≤500 | ≤1000 | NA |
| 4.4 | Trastorno límite de la personalidad | ea/cm2 | ≤2000 | ≤5000 | NA |
| 4.5 | TED | ea/cm2 | ≤7000 | ≤10000 | NA |
| 5. Calidad positiva | |||||
| 5.1 | frente | -- | Si | Si | Si |
| 5.2 | acabado superficial | -- | CMP de cara Si | CMP de cara Si | CMP de cara Si |
| 5.3 | partícula | cada oblea | ≤100 (tamaño ≥0,3 μm) | NA | NA |
| 5.4 | rascar | cada oblea | ≤5, Longitud total ≤200 mm | NA | NA |
| 5.5 | Borde astillas/hendiduras/grietas/manchas/contaminación | -- | Ninguno | Ninguno | NA |
| 5.6 | áreas de politipo | -- | Ninguno | Área ≤10% | Área ≤30% |
| 5.7 | marca frontal | -- | Ninguno | Ninguno | Ninguno |
| 6. Calidad de la espalda | |||||
| 6.1 | acabado posterior | -- | Cara C MP | Cara C MP | Cara C MP |
| 6.2 | rascar | mm | NA | NA | NA |
| 6.3 | bordes con defectos en la parte posterior astillas/hendiduras | -- | Ninguno | Ninguno | NA |
| 6.4 | Rugosidad de la espalda | nm | Ra≤5 | Ra≤5 | Ra≤5 |
| 6.5 | Marcado posterior | -- | Muesca | Muesca | Muesca |
| 7. Borde | |||||
| 7.1 | borde | -- | Chaflán | Chaflán | Chaflán |
| 8. Paquete | |||||
| 8.1 | embalaje | -- | Preparado para epi con vacío embalaje | Preparado para epi con vacío embalaje | Preparado para epi con vacío embalaje |
| 8.2 | embalaje | -- | Multi-wafer embalaje de casete | Multi-wafer embalaje de casete | Multi-wafer embalaje de casete |
Diagrama detallado






