Sistema de orientación de obleas para la medición de la orientación de cristales

Un instrumento de orientación de obleas es un dispositivo de alta precisión que utiliza los principios de la difracción de rayos X para optimizar los procesos de fabricación de semiconductores y ciencia de materiales mediante la determinación de orientaciones cristalográficas. Sus componentes principales incluyen una fuente de rayos X (p. ej., Cu-Kα, longitud de onda de 0,154 nm), un goniómetro de precisión (resolución angular ≤0,001°) y detectores (CCD o contadores de centelleo). Mediante la rotación de las muestras y el análisis de los patrones de difracción, calcula los índices cristalográficos (p. ej., 100, 111) y la distancia interplanar con una precisión de ±30 segundos de arco. El sistema admite operaciones automatizadas, fijación por vacío y rotación multiaxial, y es compatible con obleas de 2 a 8 pulgadas para mediciones rápidas de los bordes de la oblea, planos de referencia y alineación de capas epitaxiales. Sus aplicaciones clave incluyen el corte de obleas de carburo de silicio y zafiro orientadas, y la validación del rendimiento a alta temperatura de álabes de turbina, mejorando directamente las propiedades eléctricas y el rendimiento de los chips.