Sustrato de SiC Dia200mm 4H-N y carburo de silicio HPSI

Breve descripción:

El sustrato de carburo de silicio (oblea de SiC) es un material semiconductor de banda prohibida ancha con excelentes propiedades físicas y químicas, particularmente sobresalientes en entornos de alta temperatura, alta frecuencia, alta potencia y alta radiación. 4H-V es una de las estructuras cristalinas del carburo de silicio. Además, los sustratos de SiC tienen buena conductividad térmica, lo que significa que pueden disipar eficazmente el calor generado por los dispositivos durante el funcionamiento, mejorando aún más la confiabilidad y la vida útil de los dispositivos.


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4H-N y HPSI es un politipo de carburo de silicio (SiC), con una estructura de red cristalina que consta de unidades hexagonales formadas por cuatro átomos de carbono y cuatro de silicio. Esta estructura dota al material de excelentes características de movilidad electrónica y voltaje de ruptura. Entre todos los politipos de SiC, 4H-N y HPSI se utilizan ampliamente en el campo de la electrónica de potencia debido a su movilidad equilibrada de electrones y huecos y su mayor conductividad térmica.

La aparición de sustratos de SiC de 8 pulgadas representa un avance significativo para la industria de los semiconductores de potencia. Los materiales semiconductores tradicionales basados ​​en silicio experimentan una caída significativa en su rendimiento en condiciones extremas, como altas temperaturas y altos voltajes, mientras que los sustratos de SiC pueden mantener su excelente rendimiento. En comparación con los sustratos más pequeños, los sustratos de SiC de 8 pulgadas ofrecen un área de procesamiento de una sola pieza más grande, lo que se traduce en una mayor eficiencia de producción y menores costos, cruciales para impulsar el proceso de comercialización de la tecnología SiC.

La tecnología de crecimiento para sustratos de carburo de silicio (SiC) de 8 pulgadas requiere una precisión y pureza extremadamente altas. La calidad del sustrato afecta directamente el rendimiento de los dispositivos posteriores, por lo que los fabricantes deben emplear tecnologías avanzadas para garantizar la perfección cristalina y la baja densidad de defectos de los sustratos. Por lo general, esto implica procesos complejos de deposición química de vapor (CVD) y técnicas precisas de corte y crecimiento de cristales. Los sustratos 4H-N y HPSI SiC se utilizan especialmente en el campo de la electrónica de potencia, como en convertidores de potencia de alta eficiencia, inversores de tracción para vehículos eléctricos y sistemas de energía renovable.

Podemos proporcionar sustrato de SiC 4H-N de 8 pulgadas y diferentes grados de obleas de sustrato. También podemos organizar la personalización según sus necesidades. ¡Bienvenida consulta!

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