Sustrato/oblea de Ni, estructura cúbica monocristalina a=3,25 A, densidad 8,91

Las orientaciones cristalográficas de los sustratos de níquel, como <100>, <110> y <111>, desempeñan un papel crucial en la determinación de las propiedades superficiales y de interacción del material. Estas orientaciones permiten la adaptación de la red con diferentes materiales de película delgada, lo que favorece el crecimiento preciso de capas epitaxiales. Además, la resistencia a la corrosión del níquel lo hace duradero en entornos hostiles, lo que resulta beneficioso para aplicaciones en los sectores aeroespacial, marino y de procesamiento químico. Su resistencia mecánica garantiza que los sustratos de níquel puedan soportar los rigores del procesamiento físico y la experimentación sin degradarse, lo que proporciona una base estable para las tecnologías de deposición y recubrimiento de película delgada. Esta combinación de propiedades térmicas, eléctricas y mecánicas hace que los sustratos de níquel sean esenciales para la investigación avanzada en nanotecnología, ciencia de superficies y electrónica.
El níquel se caracteriza por su alta dureza y resistencia, que puede alcanzar entre 48 y 55 HRC. Posee una excelente resistencia a la corrosión, especialmente a ácidos, álcalis y otros medios químicos. Su buena conductividad eléctrica y magnetismo son componentes clave en la fabricación de aleaciones electromagnéticas.
El níquel se puede utilizar en diversos campos, como material conductor para componentes electrónicos y como material de contacto. Se utiliza en la fabricación de baterías, motores, transformadores y otros equipos electromagnéticos. Se utiliza en conectores electrónicos, líneas de transmisión y otros sistemas eléctricos. También se utiliza como material estructural para equipos químicos, contenedores, tuberías, etc. Se utiliza en la fabricación de equipos de reacción química con altos requisitos de resistencia a la corrosión. Se utiliza en los sectores farmacéutico, petroquímico y otros donde la resistencia a la corrosión de los materiales es estrictamente necesaria.

Los sustratos de níquel (Ni), gracias a sus versátiles propiedades físicas, químicas y cristalográficas, encuentran numerosas aplicaciones en diversos campos científicos e industriales. A continuación, se presentan algunas de las aplicaciones clave de los sustratos de Ni: Los sustratos de níquel se utilizan ampliamente en la deposición de películas delgadas y capas epitaxiales. Las orientaciones cristalográficas específicas de los sustratos de Ni, como <100>, <110> y <111>, proporcionan compatibilidad reticular con diversos materiales, lo que permite un crecimiento preciso y controlado de películas delgadas. Los sustratos de Ni se utilizan a menudo en el desarrollo de dispositivos de almacenamiento magnético, sensores y dispositivos espintrónicos, donde el control del espín electrónico es clave para mejorar el rendimiento del dispositivo. El níquel es un excelente catalizador para las reacciones de evolución del hidrógeno (HER) y las reacciones de evolución del oxígeno (OER), que son fundamentales en la división del agua y la tecnología de pilas de combustible. Los sustratos de Ni se utilizan a menudo como materiales de soporte para recubrimientos catalíticos en estas aplicaciones, lo que contribuye a procesos eficientes de conversión de energía.
Podemos personalizar varias especificaciones, espesores y formas del sustrato monocristalino de Ni según los requisitos específicos de los clientes.