Pulido mecánico químico Cmp: Logre un acabado superficial superior

Shanghai Xinkehui New Material Co., Ltd. es un fabricante, proveedor y fábrica líder en China de soluciones de pulido químico mecánico (CMP) de vanguardia. Nuestros productos CMP se encuentran entre los más respetados de la industria y están diseñados para lograr los niveles más altos de planaridad de superficie y planitud global en la producción de obleas semiconductoras. Nuestras soluciones CMP ofrecen una combinación única de agentes de pulido químicos y mecánicos para proporcionar una planarización óptima en una amplia gama de materiales y sustratos. Ofrecemos una amplia gama de lodos, almohadillas, herramientas y sistemas CMP para procesos de pulido de uno o varios pasos, abordando requisitos clave relacionados con la velocidad, la eficiencia y la facilidad de uso del pulido. Desde investigación y desarrollo hasta fabricación a gran escala, contamos con la experiencia y los recursos necesarios para brindar a nuestros clientes los mejores productos CMP del mercado. Nuestro compromiso con la calidad, la seguridad y la confiabilidad no tiene paralelo y estamos orgullosos de ofrecer nuestros productos a clientes de todo el mundo. Ya sea para aplicaciones industriales o de investigación, confíe en Shanghai Xinkehui New Material Co., Ltd. para todas sus necesidades de CMP.

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