Sustrato compuesto de LN sobre Si de 6 a 8 pulgadas con espesor de 0,3 a 50 μm de Si/SiC/zafiro

Imagen destacada de materiales de sustrato compuesto de LN sobre Si de 6 a 8 pulgadas con un espesor de 0,3 a 50 μm (Si/SiC/zafiro).

Descripción breve:

El sustrato compuesto de LN sobre Si, de 15 a 20 cm, es un material de alto rendimiento que integra películas delgadas de niobato de litio (LN) monocristalino con sustratos de silicio (Si), con espesores que oscilan entre 0,3 μm y 50 μm. Está diseñado para la fabricación avanzada de semiconductores y dispositivos optoelectrónicos. Mediante técnicas avanzadas de unión o crecimiento epitaxial, este sustrato garantiza una alta calidad cristalina de la película delgada de LN, a la vez que aprovecha el gran tamaño de oblea (de 15 a 20 cm) del sustrato de silicio para mejorar la eficiencia de producción y la rentabilidad.
En comparación con los materiales de LN a granel convencionales, el sustrato compuesto de LN sobre Si de 6 a 8 pulgadas ofrece una adaptación térmica y estabilidad mecánica superiores, lo que lo hace ideal para el procesamiento a gran escala de obleas. Además, se pueden seleccionar materiales de base alternativos, como SiC o zafiro, para satisfacer los requisitos específicos de cada aplicación, como dispositivos de radiofrecuencia de alta frecuencia (RF), fotónica integrada y sensores MEMS.

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Detalle del producto

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Parámetros técnicos

0,3-50 μm LN/LT en aisladores
Capa superior
Diámetro	6-8 pulgadas
Orientación	X, Z, Y-42, etc.
Materiales	LT, LN
Espesor	0,3-50 μm
Sustrato (personalizado)
Material	Si, SiC, zafiro, espinela, cuarzo

Características principales

El sustrato compuesto de LN sobre Si de 6 a 8 pulgadas se distingue por sus propiedades materiales únicas y parámetros ajustables, lo que permite una amplia aplicabilidad en las industrias de semiconductores y optoelectrónica:

1. Compatibilidad con obleas grandes: el tamaño de oblea de 6 a 8 pulgadas garantiza una integración perfecta con las líneas de fabricación de semiconductores existentes (por ejemplo, procesos CMOS), lo que reduce los costos de producción y permite la producción en masa.

2. Alta calidad cristalina: Las técnicas de unión o epitaxiales optimizadas garantizan una baja densidad de defectos en la película delgada de LN, lo que la hace ideal para moduladores ópticos de alto rendimiento, filtros de ondas acústicas de superficie (SAW) y otros dispositivos de precisión.

3. Espesor ajustable (0,3–50 μm): las capas LN ultrafinas (<1 μm) son adecuadas para chips fotónicos integrados, mientras que las capas más gruesas (10–50 μm) admiten dispositivos de RF de alta potencia o sensores piezoeléctricos.

4. Múltiples opciones de sustrato: además de Si, se pueden seleccionar SiC (alta conductividad térmica) o zafiro (alto aislamiento) como materiales base para satisfacer las demandas de aplicaciones de alta frecuencia, alta temperatura o alta potencia.

5. Estabilidad térmica y mecánica: El sustrato de silicio proporciona un soporte mecánico robusto, minimizando la deformación o el agrietamiento durante el procesamiento y mejorando el rendimiento del dispositivo.

Estos atributos posicionan al sustrato compuesto LN-on-Si de 6 a 8 pulgadas como un material preferido para tecnologías de vanguardia como las comunicaciones 5G, LiDAR y óptica cuántica.

Aplicaciones principales

El sustrato compuesto de LN sobre Si de 6 a 8 pulgadas es ampliamente adoptado en industrias de alta tecnología debido a sus excepcionales propiedades electroópticas, piezoeléctricas y acústicas:

1. Comunicaciones ópticas y fotónica integrada: permite moduladores electroópticos de alta velocidad, guías de ondas y circuitos integrados fotónicos (PIC), abordando las demandas de ancho de banda de los centros de datos y las redes de fibra óptica.

Dispositivos RF 2.5G/6G: El alto coeficiente piezoeléctrico de LN lo hace ideal para filtros de ondas acústicas de superficie (SAW) y ondas acústicas en masa (BAW), mejorando el procesamiento de señales en estaciones base 5G y dispositivos móviles.

3. MEMS y sensores: El efecto piezoeléctrico de LN sobre Si facilita acelerómetros, biosensores y transductores ultrasónicos de alta sensibilidad para aplicaciones médicas e industriales.

4. Tecnologías cuánticas: como material óptico no lineal, las películas delgadas de LN se utilizan en fuentes de luz cuántica (por ejemplo, pares de fotones entrelazados) y chips cuánticos integrados.

5. Láseres y óptica no lineal: Las capas LN ultrafinas permiten dispositivos eficientes de generación de segundos armónicos (SHG) y oscilación paramétrica óptica (OPO) para el procesamiento láser y el análisis espectroscópico.

El sustrato compuesto LN-on-Si estandarizado de 6 a 8 pulgadas permite que estos dispositivos se fabriquen en fábricas de obleas a gran escala, lo que reduce significativamente los costos de producción.

Personalización y Servicios

Brindamos soporte técnico integral y servicios de personalización para el sustrato compuesto LN-on-Si de 6 a 8 pulgadas para satisfacer diversas necesidades de I+D y producción:

1. Fabricación personalizada: el espesor de la película LN (0,3–50 μm), la orientación del cristal (corte X/corte Y) y el material del sustrato (Si/SiC/zafiro) se pueden adaptar para optimizar el rendimiento del dispositivo.

2. Procesamiento a nivel de oblea: suministro a granel de obleas de 6 y 8 pulgadas, incluidos servicios de back-end como corte, pulido y recubrimiento, lo que garantiza que los sustratos estén listos para la integración del dispositivo.

3.Consultoría técnica y pruebas: Caracterización de materiales (por ejemplo, XRD, AFM), pruebas de rendimiento electroóptico y soporte de simulación de dispositivos para agilizar la validación del diseño.

Nuestra misión es establecer el sustrato compuesto LN-on-Si de 6 a 8 pulgadas como una solución de material central para aplicaciones optoelectrónicas y de semiconductores, ofreciendo soporte integral desde I+D hasta la producción en masa.

Conclusión

El sustrato compuesto de LN sobre Si de 6 a 8 pulgadas, con su gran tamaño de oblea, la calidad superior de su material y su versatilidad, impulsa avances en comunicaciones ópticas, radiofrecuencia 5G y tecnologías cuánticas. Ya sea para la fabricación a gran escala o para soluciones personalizadas, ofrecemos sustratos confiables y servicios complementarios para impulsar la innovación tecnológica.