Gran avance en la tecnología de despegue láser de obleas de carburo de silicio de 12 pulgadas

Tabla de contenido

1. Gran avance en la tecnología de despegue láser de obleas de carburo de silicio de 12 pulgadas

2. Múltiples implicaciones del avance tecnológico para el desarrollo de la industria del SiC

3. Perspectivas futuras: Desarrollo integral de XKH y colaboración con la industria

Recientemente, Beijing Jingfei Semiconductor Technology Co., Ltd., fabricante líder nacional de equipos para semiconductores, ha logrado un avance significativo en la tecnología de procesamiento de obleas de carburo de silicio (SiC). La compañía logró el despegue de obleas de carburo de silicio de 12 pulgadas utilizando su equipo de despegue láser, desarrollado independientemente. Este avance representa un paso importante para China en el campo de los equipos de fabricación de semiconductores de tercera generación y ofrece una nueva solución para la reducción de costos y la mejora de la eficiencia en la industria global del carburo de silicio. Esta tecnología ya había sido validada por numerosos clientes en el campo del carburo de silicio de 6/8 de pulgada, alcanzando un rendimiento de los equipos de alto nivel internacional.

Este avance tecnológico tiene múltiples implicaciones para el desarrollo de la industria del carburo de silicio, entre ellas:

1. Reducción significativa de los costos de producción:En comparación con las obleas de carburo de silicio de 6 pulgadas convencionales, las obleas de carburo de silicio de 12 pulgadas aumentan el área disponible aproximadamente cuatro veces, lo que reduce los costos unitarios del chip entre un 30% y un 40%.

2. Mayor capacidad de suministro de la industria:Aborda los cuellos de botella técnicos en el procesamiento de obleas de carburo de silicio de gran tamaño y proporciona soporte de equipos para la expansión global de la capacidad de producción de carburo de silicio.

3. Proceso acelerado de sustitución de localización:Rompe el monopolio tecnológico de las empresas extranjeras en el campo de equipos de procesamiento de carburo de silicio de gran tamaño, proporcionando un apoyo importante para el desarrollo autónomo y controlable de los equipos semiconductores de China.

4. Promoción de la popularización de aplicaciones downstream:La reducción de costos acelerará la aplicación de dispositivos de carburo de silicio en campos clave como los vehículos de nueva energía y las energías renovables.

Beijing Jingfei Semiconductor Technology Co., Ltd. es una empresa del Instituto de Semiconductores de la Academia China de Ciencias, dedicada a la investigación, el desarrollo, la producción y la venta de equipos especializados para semiconductores. Con la tecnología láser como eje central, la empresa ha desarrollado una serie de equipos de procesamiento de semiconductores con derechos de propiedad intelectual independientes, que atienden a importantes clientes nacionales de fabricación de semiconductores.

El director ejecutivo de Jingfei Semiconductor declaró: «Siempre apostamos por la innovación tecnológica para impulsar el progreso industrial. El exitoso desarrollo de la tecnología de despegue láser de carburo de silicio de 12 pulgadas no solo refleja la capacidad técnica de la empresa, sino que también se beneficia del firme apoyo de la Comisión Municipal de Ciencia y Tecnología de Pekín, el Instituto de Semiconductores de la Academia China de Ciencias y el proyecto especial clave «Innovación Tecnológica Disruptiva», organizado e implementado por el Centro Nacional de Innovación Tecnológica Pekín-Tianjin-Hebei. En el futuro, seguiremos incrementando la inversión en I+D para ofrecer a nuestros clientes soluciones de equipos semiconductores de mayor calidad».

Conclusión

De cara al futuro, XKH aprovechará su completa cartera de productos de sustrato de carburo de silicio (que abarca de 2 a 12 pulgadas con capacidades de unión y procesamiento personalizado) y su tecnología multimaterial (incluyendo 4H-N, 4H-SEMI, 4H-6H/P, 3C-N, etc.) para abordar activamente la evolución tecnológica y los cambios del mercado en la industria del SiC. Mediante la mejora continua del rendimiento de las obleas, la reducción de los costes de producción y la estrecha colaboración con fabricantes de equipos de semiconductores y clientes finales, XKH se compromete a proporcionar soluciones de sustrato de alto rendimiento y alta fiabilidad para aplicaciones industriales globales de nuevas energías, electrónica de alto voltaje y alta temperatura. Nuestro objetivo es ayudar a los clientes a superar las barreras técnicas y lograr una implementación escalable, posicionándonos como un socio de confianza en materiales clave en la cadena de valor del SiC.